空鍍膜設備的薄膜制作過程,簡單來說就是將一種材料(薄膜材料)轉移到另一種材料(基底)的表面,形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以,任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。
多功能磁控濺射儀
二手日本光馳光學鍍膜機OTFC-1300回收/出售/出租介紹
一、鍍膜蒸發(fā)源
“源"的作用是提供鍍膜的材料(或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質。
熱絲CVD金剛石設備
二、遷移過程
遷移過程都是在氣相中進行的,在氣態(tài)物質遷移時,為了保證膜層的質量,一般都是在真空或惰性氣氛中進行,并施加電場、磁場或高頻等外界條件來進行活化以增加到達基底上的氣態(tài)物質的能量,提供氣態(tài)物質發(fā)生反應的能量,即提供氣態(tài)物質反應的激活能。
此貼長期有效，聯(lián)系我時，請說明是從處理網看到的。
