13.6B研磨機參數(shù)
設備品牌 環(huán)宇
生產(chǎn)年份 2014年
機器尺寸 L1.25m* W1.75m*H 2.5m
磨盤直徑 D960mm
磨盤有效徑 D330mm
游星輪數(shù)量 5pcs
馬達數(shù) 2pcs
臺 數(shù) 20臺
拋光研磨的的使用
在普通拋光機的基礎.上改進創(chuàng)新發(fā)展起來的.適用于產(chǎn)量比較大的工廠使用.
拋光機操作的關鍵:
1.要設法得到最大的拋光速率,以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層.
2.要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織,即不會造成假組織.
3.解訣這個矛盾的辦法就是把拋光分為兩個階級進行.
4.粗拋目的是去除磨光損傷層,具有最大的拋光速率.。
5.粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過也應當盡可能小.
6.精拋,其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小.
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